赶超英特尔5年?台积电将于明年年初试产5nm芯片

日前,著名半导体制造公司台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破,一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作,二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。这对于下游产业将是非常大的利好消息。

据透露的消息来看,5nm的设计成本会是7nm的1.5倍左右,未来使用更先进的制程,成本将越来越高,这也进一步限制了摩尔定律的延续,用5nm晶片设计工具预计要到11月才能准备就绪。

最近几年,手机芯片工艺制程进步非常迅速,发展速度远远超过电脑处理器。当然,随着工艺一步步逼近极限,也距离瓶颈也越来越近,www.23366.com。再过几年,手机芯片的性能提升可能会遇到阻碍,在硅还是芯片主要材料时,这个问题很难解决。

当然,不管怎么样,手机芯片制程技术的快速进步,对普通用户来说其实是件好事。手机市场的激烈竞争,让芯片厂商不得不放弃挤牙膏的策略,让手机用户能享受到最新最好的科技成果。

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